气路流量控制装置的详细资料

布鲁克斯/Brooks

气体质量流量控制器和流量计广泛应用于:真空镀膜设备、光电产业到工业工具的表面镀膜、SPUTTER磁控溅射台、PVD、CVD、MOCVD、氧化、等离子刻蚀、离子注入，直拉式晶炉，精密半导体、燃料电池、气调储存保鲜相关设备、生物反应器、生物过程控制器、大学实验室、研究所、食品及制药产业、医疗设备、气相色谱仪等相关行业。?数模橡胶密封;流量范围:0。003-30 slpm;耐压:100 Bar精度:±1.0% of rate(20%-**** FS);±0.2% FS(below 20% FS);±1.0% of FS(1100-2500 slpm)

• DeviceNet™、RS-485 L-协议和模拟接口
• 按照半导体行业标准对高性能组件进行七次连续测试以确保其可靠性
• 表面积和未吹扫体积更小的全金属耐腐蚀流路可确保流路在吹扫步骤更快干燥
• MultiFlo™ 技术可在 60 秒内完成新过程气体和/或量程的设定操作 – 不再需要拆除并校准 MFC
• 长期零点稳定性,每年变动小于满量程的 ± 0.5%
• 稳定时间：500 ms - <1 秒
• 满量程流速高达 300 slpm
• 全金属密封流路： Ra 表面处理的流路
• 耐腐蚀 Hastelloy® T-Rise 传感器可提升高温下测量结果的可重现性
• MultiFlo™ 气体和量程设定功能 — 一台设备即可满足数千种气体类型和各种量程组合的需求,无需从气路上拆除 MFC 并且不影响精度
• 本地显示屏
• 可选 SDS 气体输送
• DeviceNet™、RS-485 L-协议和模拟接口
• 半导体蚀刻工具
• 薄膜化学气相沉积系统（CVD、MOCVD、PECVD、ALD）
• 物理气相沉积 (PVD) 系统
• 外延工艺系统